移相掩膜板的制造方法及其结构

本发明提供一种移相掩膜板的制造方法及其结构，所述方法包括以下步骤：在衬底上依次生长移相消光层、刻蚀保护层和金属层；在所述金属层上涂布第一光刻胶，刻蚀所述金属层；在所述刻蚀保护层上涂布第二光刻胶，刻蚀所述刻蚀保护层和所述移相消光层；去除所述第一光刻胶和所述第二光刻胶，并清洗所述移相消光层，本发明所提供的工艺能够有效的减少移相掩膜板制造方法中对移相消光层产生的损伤，提高移相掩膜板的可靠性和使用寿命。