- 技术(专利)类型 发明专利
- 申请号/专利号 CN201080037493.6
- 技术(专利)名称 照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法
- 项目单位 ASML荷兰有限公司
- 发明人 G·德维里斯 埃德温·比伊斯 M·范达姆 J·范斯库特 F·布恩 H·科瑞沃
- 行业类别 物理
- 技术成熟度 未知
- 交易价格 ¥面议
- 联系人 ASML荷兰有限公司
- 发布时间 2017-01-18
项目简介
说明书
企业营业执照
专利注册证原件
身份证
个体户营业执照
身份证
专利注册证原件
专利代理委托书
转让申请书
转让协议
手续合格通知书
专利证书
专利利登记簿副本
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