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照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法

照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201080037493.6 
  • 技术(专利)名称 照射系统、光刻设备和调节照射模式的方法 
  • 项目单位 ASML荷兰有限公司
  • 发明人 G·德维里斯 埃德温·比伊斯 M·范达姆 J·范斯库特 F·布恩 H·科瑞沃  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 ASML荷兰有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种照射系统,该照射系统具有可以配置成形成照射模式的多个可移动反射元件22a、22b、22c和相关的致动器。所述致动器中的一个或更多个布置成在第一位置、第二位置和第三位置之间移动,并因此在第一方向、第二方向和第三方向之间移动相关的可移动反射元件22a、22b、22c,所述第一方向和第二方向使得从所述可移动反射元件22a、22b、22c反射的辐射形成所述照射模式的一部分,所述第三方向使得从所述可移动反射元件反射的辐射不形成照射模式的一部分。
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  • 02

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