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一种空间成像套刻检验方法及阵列基板

一种空间成像套刻检验方法及阵列基板

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201210025005.0 
  • 技术(专利)名称 一种空间成像套刻检验方法及阵列基板 
  • 项目单位 北京京东方光电科技有限公司
  • 发明人 姜晓辉 郭建  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 北京京东方光电科技有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种空间成像套刻检验方法及阵列基板,该方法包括:光刻形成一层具有空间成像套刻标记的薄膜;在所述薄膜为透明薄膜时,对所述透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理,使所述空间成像套刻标记显示出非透明色;利用所述非透明色的空间成像套刻标记,进行所述透明薄膜与相邻的薄膜之间的空间成像套刻检验。本发明通过对透明薄膜上的空间成像套刻标记作显色处理后再进行定位,可以快速准确的定位空间成像套刻标记,从而可以快速有效地检测出两道光刻工序间的对准状况。
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