具有高热传导率的EUV掩模版基底

反射型掩模版实质上减小或消除了吸收EUV辐射导致的图案变形，同时保持掩模版厚度符合工业标准。反射型掩模版包括超低膨胀ULE玻璃的层和热传导率实质上大于ULE玻璃的堇青石基底。将铝层设置到ULE玻璃的第一表面，并将ULE玻璃的第二表面抛光成基本上平坦的且无缺陷的。采用阳极键合可以将堇青石基底直接结合至铝层以形成反射型掩模版。替代地，中间微晶玻璃层的第一表面可以结合至铝层，并且第二铝层可以用于将堇青石基底阳极键合至微晶玻璃层的第二表面，由此形成反射型掩模版。