具有减少的工具痕迹的用于均匀薄膜沉积的平行板反应器

本发明涉及一种电容耦合平行板等离子体增强型化学气相沉积反应器，该反应器包括被整合在RF电极中的气体分配单元，并包括气体出口。本发明的目的是提供所提及的类型的平行板反应器，利用该反应器能够生产具有厚度高均匀性和高品质的层。该目的是通过所提及的类型的电容耦合平行板等离子体增强型气相沉积反应器来达成的，其中该气体分配单元包括多级喷淋头，该喷淋头按照使其提供对该气体分配单元的气体分配和气体排放模式的独立调节的方式构造。