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掩模板制造方法、掩模制造方法、掩模板透明基片制造方法

掩模板制造方法、掩模制造方法、掩模板透明基片制造方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201010203212.1 
  • 技术(专利)名称 掩模板制造方法、掩模制造方法、掩模板透明基片制造方法 
  • 项目单位 HOYA株式会社
  • 发明人 铃木修 赤川裕之 田边胜 川口厚 石桥直纯  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 HOYA株式会社
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明提供一种掩模板制造方法、一种掩模制造方法、一种掩模板透明基片制造方法。通过在掩模板透明基片上形成待成为掩模图形的薄膜制造掩模板。当向掩模制造部分提供掩模板时,掩模板制造部分向掩模制造部分提供掩模板透明基片的光学特性信息透射率差异和掩模板的光学特性信息透射率差异和或相差差异。掩模板透明基片的光学特性信息从制造掩模板透明基片的材料处理部分提供给掩模板制造部分。
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  • 02

    说明书

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