自参考干涉仪、对准系统和光刻设备

本发明公开了一种自参考干涉仪、对准系统和光刻设备。自参考干涉仪包括光学系统以将对准束分开来产生参考束和变换束。光学系统包括分束器以组合参考束和变换束，使得在参考束中的衍射级在空间上与变换束中的它们的各自的相反的衍射级重叠。检测器系统接收来自光学系统的在空间上重叠的参考束和变换束，和确定位置信号。检测器系统包括用于操控所述束的偏振的偏振系统，使得它们干涉，且所述偏振系统用于引导干涉的参考束和变换束至用于由干涉的束的强度变化确定位置信号的检测器。