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掩模板及其制造方法、以及监测掩模板雾状污染的方法

掩模板及其制造方法、以及监测掩模板雾状污染的方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201110330676.3 
  • 技术(专利)名称 掩模板及其制造方法、以及监测掩模板雾状污染的方法 
  • 项目单位 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 发明人 胡华勇 张士健  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明涉及掩模板及其制造方法、以及监测掩模板雾状污染的方法。在掩模板的划片道内具有至少一个监测区域,其中布置有主图案和位于每个主图案附近的辅助图案,每个辅助图案包括相互平行的至少两个散射条。监测区域的其余部分覆盖有透光率低于主图案和辅助图案的透光率的相移层。主图案和辅助图案被设计为使得当对无污染的掩模板曝光时,辅助图案不转移到晶圆上,而是与相应主图案配合以在晶圆上产生与主图案相对应的主转移图案;而当两个散射条之间的间隔区域中具有雾状污染时,在对掩模板曝光后,在晶圆上的主转移图案附近产生缺陷标识图案。利用本发明的掩模板,能够对其上的雾状污染进行在线监测,及时有效地发现雾状污染,提高产品的良率。
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