具有清洗系统的容器灌装设备

一种处理容器10的设备1，包括处理容器的处理件2以及包括在所述设备的清洗模式中至少偶尔覆盖所述处理件2的覆盖件6，其中，以第一类型运动的所述覆盖件6相对于预定义的轴X是可移动的，这样在这一轴X和所述覆盖件6之间的相对位置至少偶尔改变；其中为了相对于所述处理件2移动所述覆盖件6，以第二类型运动的覆盖件6在这一轴X的延伸方向上是可移位的；其中，具有引起所述覆盖件以所述第一类型运动来运动的第一驱动装置8和引起所述覆盖件以所述第二类型运动沿所述轴X运动的第二驱动装置12，其中所述第二驱动装置12至少偶尔从所述覆盖件6机械分离。