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曝光装置

曝光装置

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN200910212111.8 
  • 技术(专利)名称 曝光装置 
  • 项目单位 优志旺电机株式会社
  • 发明人 佐藤善彦 井上丰治  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 优志旺电机株式会社
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    提供一种曝光装置,具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部,能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部1照射于光罩M,在准直显微镜10显像光罩标记MAM的投影像,求出其位置坐标并存储。一方面,在对准平台AS上载置工件W,以工件标记WAM所形成的间隔单步进给平台AS或准直显微镜4,利用准直显微镜4以排列的方式检测工件标记WAM,存储其位置坐标。顺便,工件搬运机构23将工件W搬运至曝光平台WS,进行对位以使光罩标记MAM与工件标记WAM的位置一致,一面移动曝光平台WS,一面依次曝光工件W上的各曝光区域。
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  • 02

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