源偏振的优化

本发明涉及源偏振的优化。本发明公开了一种光刻模拟过程，其中通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些表征在源点处的偏振状态。基于所计算的代价函数相对于一个或更多个变量参数的梯度，迭代地重新配置照射源中的预选组源点和设计布局的表示中的一个或两个，直到获得期望的光刻响应为止，其中代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度。还描述了用于执行源偏振变化的物理硬件。