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测量系统、方法和光刻设备

测量系统、方法和光刻设备

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201110167303.9 
  • 技术(专利)名称 测量系统、方法和光刻设备 
  • 项目单位 ASML荷兰有限公司
  • 发明人 H·H·M·考克西 W·H·G·A·考恩 T·A·马塔尔 M·T·J·彼德尔斯 R·A·A·沃库伊耶  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 ASML荷兰有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种测量系统、方法和光刻设备。所述测量系统配置成得出物体的位置量,所述测量系统包括:至少一个位置量传感器,配置成提供各自的位置量测量信号;位置量计算器,配置成由所述位置量测量信号确定所述物体的位置量,其中所述位置量计算器包括扭转估算器,所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转,所述位置量计算器配置成针对于所述估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
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  • 02

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