一种实现小束斑高压脉冲电子束轰击的装置

本发明是一种实现小束斑高压脉冲电子束轰击的装置，本发明技术方案通过调节聚焦线圈中的电流，改变聚焦磁场的强度，使材料表面的束斑被压缩在直径Φ2～4mm范围内，由于脉冲电子束流≥200mA，从而实现了小束斑高功率密度脉冲束流的输出；本发明装置不但易于实现，而且具有良好的控制性，可以对工件的狭窄空间表面进行处理，将脉冲电子束流的输出与偏转线圈产生的偏转磁场同步，配合不同的偏转扫描波形，采用束斑搭接轰击的方式，可实现对小孔边缘、较大面积材料的表面处理。