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发光分析装置

发光分析装置

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201280024650.9 
  • 技术(专利)名称 发光分析装置 
  • 项目单位 株式会社CREV
  • 发明人 山下真希 水河启美  
  • 行业类别 物理
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 株式会社CREV
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    发光分析装置具备:作为第1光强度计算部的一例的等离子光强度计算部(120),通过将由分光计测器(200)计测的表示容器内的每个波长的光强度的分光光谱利用多项式近似,计算容器内的每个波长的光强度;作为第2光强度计算部的一例的分子光强度计算部(130),通过按每个波长从由上述分光计测器(200)计测的上述分光光谱所表示的光强度减去上述第1光强度计算部计算出的光强度,计算与分子或原子的亮线光谱对应的光强度;以及比计算部(140),使用第2光强度计算部计算出的光强度,计算第1分子的分子光谱或第1原子的原子光谱的峰值与第2分子的分子光谱或第2原子的原子光谱的峰值之比。
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