1.一种三元铜基催化剂的制备方法,包括:将氧化铜与还原性物质加入至溶剂中,研磨反应,除杂,粉碎,得到三元铜基催化剂。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述氧化铜为分析纯氧化铜粉末或工业级氧化铜粉末;优选地,所述氧化铜的粒度为600微米以下,进一步优选为1~550微米,特别优选为5~500微米。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在反应体系中加入助催化剂;优选地,所述助催化剂为元素的单质、氧化物、卤化物或铜合金中的1种或至少2种的组合,所述元素为锌、锡或磷中的1种或至少2种的组合;优选地,所述助催化剂的粒度为600微米以下,进一步优选为1~550微米,特别优选为5~500微米;优选地,所述助催化剂与所述氧化铜的质量比为15:100以下,进一步优选为12:100以下,特别优选为10:100以下。
4.如权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述还原性物质为水合肼、葡萄糖、甲醛、抗坏血酸或硼氢化钠中的1种或至少2种的组合;优选地,所述还原性物质与所述氧化铜的质量比为0.01:1~15:1,进一步优选为0.01:1~10:1,特别优选0.1:1~2:1。
5.如权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述溶剂为水和/或有机溶剂,更优选为水、C1~C5醇类、C3~C5酮类中的1种或至少2种的组合,特别优选为水和/或乙醇;优选地,所述溶剂与原料氧化铜的质量比为0.8:1~15:1,进一步优选为1:1~10:1,特别优选1:1~5:1。
6.如权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述研磨所采用设备为行星球磨机、滚筒研磨机、搅拌研磨机、振动磨或砂磨机中的任意1种;优选地,所述研磨时间为大于0小时,进一步优选为0.5~24小时,特别优选为2~10小时;优选地,所述除杂包括依次过滤和干燥;优选地,所述过滤为抽滤。
7.一种三元铜基催化剂,其特征在于,所述三元铜基催化剂由权利要求1-6任一项所述的方法制备,其含有单质铜、氧化亚铜和氧化铜。
8.如权利要求7所述的三元铜基催化剂,其特征在于,所述铜基三元催化剂粒径为0.1-70微米,优选为0.2-50微米,特别优选0.5-10微米;优选地,所述三元铜基催化剂中单质铜的含量为0.5~95wt%,进一步优选为
0.8~93wt%,特别优选为1~90wt%;优选地,所述三元铜基催化剂中氧化亚铜的含量为2-95wt%,进一步优选为3~93wt%,特别优选为5-90wt%;优选地,所述三元铜基催化剂中氧化铜的含量为2-95wt%,进一步优选为3~93wt%,特别优选为5-90wt%。
9.如权利要求7或8所述的三元铜基催化剂,其特征在于,所述催化剂还含有助催化剂;优选地,所述助催化剂为元素的单质、氧化物、卤化物或铜合金中的1种或至少2种的组合,所述元素为锌、锡或磷中的1种或至少2种的组合。
10.一种如权利要求7-9任一项所述的三元铜基催化剂的用途,其特征在于,所述三元铜基催化剂用作二甲基二氯硅烷合成反应的催化剂。
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