一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法

本发明提供了一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法。它涉及绿色、清洁电镀领域。该电镀液由无水卤化铝（A）、N,N′‑二烷基咪唑卤化物（B）和添加剂（C）‑吡啶衍生物混合而成。无水卤化铝（A）与N,N′‑二烷基咪唑卤化物（B）的表观摩尔比为1:1～3:1，添加剂（C）的加入量为0.5～15g/L。操作条件为：惰性气体保护下，阴极电流密度为0.5～5A/dm

1.一种离子液体中低温制备光亮铝镀层的方法，其电镀液由(A)、(B)和(C)三种组分组成：(A)无水卤化铝AlX₃,X＝Cl,Br,I固体；(B)N,N′-二烷基咪唑卤化物的一种或一种以上的混合物，其结构式如下，X代表Cl,Br或I，R₁和R₂代表含1～5个碳的烷基链；(C)添加剂，一种或一种以上如下所示结构的吡啶衍生物，其中1位、2位和3位中的一处或两处被-COOH或-CONH₂或-COOR取代的化合物，其中R代表含1～5个碳的烷基链，两处取代时的取代基可以相同，也可以不同；其中，无水卤化铝(A)与N,N′-二烷基咪唑卤化物(B)的摩尔比为1:1～3:1，A与B所带的卤素离子可以相同，也可以不同；添加剂(C)的种类根据具体施镀基体的材质和对镀层质量的要求选定，加入量为0.5～15g/L；施镀过程在手套箱中，惰性气体保护下进行，阴极工件经过打磨抛光→除油→酸泡→水洗→丙酮洗→干燥前处理；阳极高纯铝经过打磨抛光→混酸泡→水洗→丙酮洗→干燥前处理；放入镀槽前阴阳极一定要保证干燥，且要防止被再次氧化；阴阳极面积比为1:1.5～1:3，阴极电流密度为0.5～5A/dm²，镀液温度为25～100℃，施镀时间为10～120min，搅拌速度为0～500r/min。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：阴极材料为金属或碳素类。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：阳极高纯铝片前处理用的混酸是按如下体积分数混合而成的：HNO₃：H₃PO₄：HAC：H₂O＝1％：65％：5％：29％。
4.一种采用如权利要求1所述方法制备的光亮铝镀层的用途，其特征在于：用作太阳能选择性吸收涂层的底层薄膜或用作其他功能膜层如装饰性镀层。