利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统

一种利用AFM的探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，该系统包括：一与其他真空生长设备相兼容的超高真空室；一原子力显微镜，其固定在超高真空室的底部；一衬底托固定装置，其固定在原子力显微镜的上面，该衬底托固定装置的中间有一孔洞；一衬底托，其位于衬底托固定装置中间的孔洞上面；一机械臂，其固定在超高真空室的上面，用于衬底托的传递；一探针置换腔，其固定在超高真空室的侧壁上，用于原子力显微镜探针的更换；一监控系统，用于原子力显微镜制备压印图形的控制。本发明具有图形精度高(高于50nm)、外延损伤小和利于制备高集成度阵列光电子器件等特点。

1.一种利用原子力显微镜探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，该系统包括：一与其他真空生长设备相兼容的超高真空室；一原子力显微镜，其固定在超高真空室的底部；一衬底托固定装置，其固定在原子力显微镜的上面，该衬底托固定装置的中间有一孔洞；一衬底托，其位于衬底托固定装置中间的孔洞上面；一机械臂，其固定在超高真空室的上面，用于衬底托的传递；一探针置换腔，其固定在超高真空室的侧壁上，用于原子力显微镜探针的更换；一监控系统，用于原子力显微镜制备压印图形的控制。
2.根据权利要求1所述的利用原子力显微镜探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，其中的超高真空室真空度为1E^-8Torr到1E^-10Torr，利于维持外延衬底的清洁度。
3.根据权利要求1所述的利用原子力显微镜探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，其中原子力显微镜具有纳米压印功能，该原子力显微镜的探针方向朝上，探针的材料为SiN强度较大的材料。
4.根据权利要求1所述的利用原子力显微镜探针制备图形衬底的定位纳米压印系统，其中监控系统包括对纳米压印的设定、控制以及衬底托上的衬底表面的成像。