1.一种具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层,其特征在于AlCrN涂层与基体之间有
一层10~300 nm厚的纯Cr金属层和10~300 nm的CrN层,以提高涂层与基体之间的结合力;
AlCrN涂层总厚度为2~10 μm。
2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于:AlCrN层中Al含量为25~40 at.%, Cr含量
为15~25 at.%, N含量为45~50 at.%;其中Al/(Al+Cr)= 0.5~0.75。
3.根据权利要求1所述的AlCrN涂层,其特征在于:所述AlCrN涂层为面心立方结构的
(Al,Cr)N相,衍射峰位于fcc-CrN和fcc-AlN衍射峰的中间,但离fcc-AlN衍射峰更近一些。
4.根据权利要求1所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:采用国产AIP-650型电弧
离子镀膜仪在高速钢和硬质合金上沉积具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层,硬度高达
30~40 GPa。
5.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:基体材料经过除油和干
燥预处理后,放在可同时自转和公转的转架上,公转速度为5~40 r/min,靶基距约为150
mm。
6.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:采用机械泵和分子泵抽
真空;当真空室气压优于1×10-3 Pa时,打开加热系统将炉腔加热至200~500 ºC;随后,开启
Ar气流量阀,气流量为50~200 sccm,调整节流阀使真空室压强为0.1~2 Pa,基片加-600~
1000 V负偏压,辉光清洗10~20 min;开启4个纯Cr靶,靶材电流均为50~150 A,对基体进行
轰击清洗5~30 min;降低偏压至-10~100 V,调节真空压强,沉积纯Cr金属层约5~20 min;通
入N2沉积5~20 min,获得CrN过渡层。
7.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺,其特征在于:沉积AlCrN涂层时,N2和Ar
气流量分别为50~200 sccm,调整节流阀使真空室压强为0.3~2 Pa,控制N2/Ar比在0.5~3之
间;同时开启4个纯Al靶和纯Cr靶,电流均为50~150 A,沉积AlCrN涂层,时间为30~120 min。
展开