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一种沟槽肖特基势垒二极管及其制造方法

一种沟槽肖特基势垒二极管及其制造方法

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2020-03-27
  • 技术成熟度:未知
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
  • 代办官方过户
  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201210382236.7 
  • 技术(专利)名称 一种沟槽肖特基势垒二极管及其制造方法 
  • 项目单位 杭州立昂微电子股份有限公司
  • 发明人 刘伟  
  • 行业类别 电学
  • 技术成熟度 未知
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 杭州立昂微电子股份有限公司
  • 发布时间 2017-01-18  
  • 01

    项目简介

    本发明公开了一种沟槽肖特基势垒二极管,解决了现有沟槽肖特基势垒二极管性能与可靠性低,反向漏电大,反向阻断能力差的问题,本发明中外延层的掺杂浓度由顶面至底面递增,沟槽中填充有第二导电类型非均匀掺杂且掺杂浓度由顶面至底面递减的导电多晶硅,凸台两侧的顶角形成第二导电类型重掺杂的凸台顶角保护区域,并且在阳极金属层底面增加了与导电多晶硅的顶面及凸台顶角保护区域的顶面均形成欧姆接触肖特基势垒金属层,本发明的沟槽肖特基势垒二极管反向漏电低,电压反向阻断能力佳,可靠性好。本发明还公开了一种沟槽肖特基势垒二极管的制造方法,该制造方法步骤少,制造成本低,能有效隔绝因隔离层局部损伤而被工艺过程损伤和杂质玷污的区域。
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