一种阵列基板及其制造方法、显示装置

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，用以降低生产成本，进而保护周边过孔后续沉积的金属，避免金属和树脂粘附性不良的情况。阵列基板制造方法包括依次在衬底基板上制造栅极、栅极绝缘层、半导体有源层、源漏极、第一钝化层、像素电极、第二钝化层、存储电容上基板和第三钝化层；在第三钝化层上刻蚀位于漏极上方，贯穿第一、第二和第三钝化层的第一过孔、位于像素电极上方，贯穿第二和第三钝化层的第二过孔、位于存储电容上基板上方，贯穿第三钝化层的第三过孔、位于周边引线区源极上方，贯穿第一、第二和第三钝化层的第四过孔、位于周边引线区栅极上方，贯穿栅极绝缘层、第一、第二和第三钝化层的第五过孔。