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含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池

含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池

  • 专利类型:发明专利
  • 有效期:不限
  • 发布日期:2021-07-15
  • 技术成熟度:详情咨询
交易价格: ¥面议
  • 法律状态核实
  • 签署交易协议
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  • 交易成功

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  • 技术(专利)类型 发明专利
  • 申请号/专利号 CN201410426193.7 
  • 技术(专利)名称 含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池 
  • 项目单位 中国科学院半导体研究所
  • 发明人 杨静;赵德刚;陈平;刘宗顺;江德生 
  • 行业类别 电学
  • 技术成熟度 详情咨询
  • 交易价格 ¥面议
  • 联系人 李志文
  • 发布时间 2021-07-15  
  • 01

    项目简介

    一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括:一衬底;一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心;一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上;一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上;一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层;一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上;一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上;一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。本发明具有增加入射光的吸收,并提高载流子的分离效率的优点。
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  • 02

    说明书


    1.一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括: 一衬底; 一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心; 一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上; 一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上; 一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层; 一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上; 一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上; 一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。 
    2.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中所述衬底的材料为蓝宝石、碳化硅或氮化镓。 
    3.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中所述低温成核层的材料为氮化镓或者氮化铝。 
    4.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中n型掺杂氮化镓层中的自由电子浓度为1×1017-1×1019cm-3。 
    5.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中非故意掺杂多量子阱层包括5-20个InxGa1-xN/GaN周期结构,每个周期由InxGa1-xN阱层、低温插入层和GaN垒层构成,其中0<x≤1。 
    6.如权利要求5所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中InxGa1-xN阱层的生长温度为700-800℃,厚度为2-5nm,GaN垒层生长温度为800900℃,厚度为6nm。 
    7.如权利要求5所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中低温插入层的材料是氮化镓或铟镓氮或铝镓氮,其生长温 度与InxGa1-xN阱层生长温度相同,厚度为0.5-1.5nm。 
    8.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中所述p型掺杂氮化镓层的厚度为100-300nm,自由空穴浓度为1×1017-1×1019cm-3。 
    9.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中所述的N型欧姆电极是点状结构或环形结构。 
    10.如权利要求1所述的含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,其中所述的P型欧姆电极是点状结构或环形结构。 
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