1.一种含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其包括:一衬底;一低温氮化镓成核层,其制作在衬底之上,该低温氮化镓成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心;一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温氮化镓成核层之上;一n型掺杂GaN层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层之上,该n型掺杂GaN层上面的一侧有一台面,该台面低于n型掺杂GaN层的上表面;一第一非掺杂低In组分量子阱层,其制作在n型掺杂GaN层之上,其由InxGa1-xN/GaN多层结构组成,其中0<x<1;一第二非掺杂低In组分量子阱层,其制作在第一非掺杂低In组分量子阱层之上,其由InyGa1-yN/GaN多层结构组成,其中0<y<1且y>x;一非掺杂高In组分量子阱层,其制作在第二非掺杂低In组分量子阱层之上,其由InzGa1-zN/GaN多层结构组成,其中0<z<1且z>y;一P型掺杂氮化镓层,其制作在非掺杂高In组分量子阱层之上;一N型欧姆电极,其制作在n型接触层上面的台面上;一P型欧姆电极,其制作在P型接触层上。
2.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中所述的衬底为双面抛光的蓝宝石或氮化镓材料。
3.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中n型掺杂GaN层中的自由电子浓度为1×1017cm-3-1×
1019cm-3。
4.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中第一非掺杂低In组分量子阱层中InxGa1-xN/GaN的周期数为2-10,第二非掺杂低In组分量子阱层中InyGa1-yN/GaN的周期数为2-10,非掺杂高In组分量子阱层中InzGa1-zN/GaN的周期数为5-20。
5.如权利要求4所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中第一非掺杂低In组分量子阱层、第二非掺杂低In组分量子阱层和非掺杂高In组分量子阱层中的InGaN的厚度为1nm-4nm,GaN的厚度为3nm-15nm。
6.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中所述P型掺杂氮化镓层的厚度为1-3um,自由空穴浓度为1×1017cm-3-1×1019cm-3。
7.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中所述的N型欧姆电极是点状结构或环形结构。
8.如权利要求1所述的含有变In组分InGaN/GaN多层量子阱结构的太阳能电池,其中所述的P型欧姆电极是点状结构或环形结构。
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