一种足浴盆

技术领域

[0001] 本实用新型涉及足浴盆技术领域，具体涉及一种足浴盆。

背景技术

[0002] 足浴盆是一种用于足部冲洗按摩的容器。现有足浴盆包括四周盆壁和盆底所围成的盆体，盆体成圆柱形或倒圆台形，也即盆底水平设置，这种足浴盆泡脚时，通常在足浴盆中添加一定量的水（用水需求量大），使水的高度达到能浸泡脚脖的高度，这样虽然能浸泡脚脖，但对于脚的浸泡而言，足浴盆的水只要能漫过脚面即可，而高出脚面至脚脖高度的水并无太大用处，一般泡完脚后水会直接倒掉，从而造成水资源的大量浪费。

实用新型内容

[0003] 本实用新型的目的在于提供一种足浴盆，旨在解决现有技术中的足浴盆在泡脚时用水需求量大而造成的水资源大量浪费的技术问题。

[0004] 为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种足浴盆，包括由四周盆壁和盆底所围成的盆体，所述盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面，所述倾斜面形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面。

[0005] 本实用新型的有益效果：本实用新型实施例提供的足浴盆，盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面，倾斜面形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面，这样，用户使用上述足浴盆泡脚时，可以将脚放置于脚踩面上，倾斜面与四周盆壁围成一个较小且能够容下脚的泡脚区域，该泡脚区域与现有技术中呈水平设置的盆底与四周盆壁围成的泡脚区域而言，向泡脚区域内添加少量的水就可使水的高度达到浸泡脚脖的高度，因此，在满足浸泡脚脖的同时，又减少水的使用量，从而有效解决水资源大量浪费的问题。

[0006] 进一步地，所述盆底的内盆面还包括连接在盆壁与倾斜面上端之间的水平面，所述水平面形成在洗脚前、洗完脚后用于搁放脚的搁放面。采用此种设计可以有效提升足浴盆的实用性。

[0007] 进一步地，所述倾斜面与所述水平面的连接处为圆弧过渡连接。设计成圆弧过渡连接的结构，可以避免用户在使用该足浴盆时被划伤，提升足浴盆的使用安全性。

[0008] 进一步地，所述倾斜面上均布有按摩凸起。设置按摩凸起，可以在泡脚的同时按摩足部穴位，另外，按摩凸起还具有一定的防滑作用。

[0009] 进一步地，所述倾斜面上于相邻两按摩凸起之间的间隙处设置有凹槽，所述凹槽中嵌装有磁石。通过设置磁石，可以达到磁疗的效果，使得该足浴盆更加实用。

[0010] 进一步地，所述倾斜面的倾斜角度为α，α满足：27°≤α≤30°。将盆底的倾斜角设计为27°≤α≤30°，既能有效减小盛水空间以减少水资源的浪费，还能保证用户使用的舒适性。

[0011] 进一步地，所述倾斜面的垂直高度为H，H满足 20CM≤L≤23CM。将倾斜面的垂直高度设置20CM≤L≤23CM，能够保证踩脚空间较为合理，保证足浴盆的设计合理。

附图说明

[0012] 图1是本实用新型中足浴盆的具体实施例的俯视图；

图2是本实用新型中足浴盆的具体实施例的剖视图。

[0013] 图中：1、四周盆壁；2、倾斜面；3、搁脚面；4、按摩凸起。

具体实施方式

[0014] 下面结合附图对本实用新型的实施方式作进一步说明。

[0015] 本实用新型实施例提供一种足浴盆的具体实施例，如图1和图2所述，足浴盆包括倒圆台状的盆体，盆体包括盆底和围设在盆底上的四周盆壁1。盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面2，该倾斜面2形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面。

[0016] 如图1和图2所示，上述足浴盆，盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面2，倾斜面2形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面，这样，用户使用上述足浴盆泡脚时，可以将脚放置于脚踩面上，倾斜面2与四周盆壁1围成一个较小且能够容下脚的泡脚区域，该泡脚区域与现有技术中呈水平设置的盆底与四周盆壁1围成的泡脚区域而言，向泡脚区域内添加少量的水就可使水的高度达到浸泡脚脖的高度，因此，在满足浸泡脚脖的同时，又减少水的使用量，从而有效解决水资源大量浪费的问题。

[0017] 本实施例中，如图1和图2所示，盆底的内盆面还包括连接在盆壁1与倾斜面2上端之间的水平面3，该水平面3形成在洗脚前、洗完脚后用于搁放脚的搁放面，这样在泡脚前可以先将脚踩于搁放面上，待水温合适后将脚放入，泡脚结束后，还可将脚放踩于搁放面上晾干。

[0018] 为确保本实用新型的使用安全性，本实施例中，如图2所示，在倾斜面2与水平面3的连接处采用圆弧过渡连接，避免倾斜面2与水平面3的连接处呈凸棱状而划伤脚。

[0019] 本实施例中，如图2所示，盆底为板状结构，盆底的外表面与四周盆壁1形成中空结构，四周盆壁1的下端面为同一高度的平面，以确保盆体的放置稳定性。

[0020] 为了能在泡脚的同时，又能进行足底穴位按摩，本实施例中，如图1和图2所示，在倾斜面2上均布有按摩凸起4，按摩凸起4呈圆形涂点状。

[0021] 本实施例中，在倾斜面2上于相邻两按摩凸起4之间的间隙处设置有凹槽，凹槽中嵌装有磁石，这样在泡脚的同时，还可以进行磁疗，达到了磁疗保健的目的。

[0022] 本实施例中，如图2所示，倾斜面2的倾斜角度为α（如图2中α所示），α为30°，倾斜角为30°的盆底，在达到节水的目的下，还能确保脚踩在倾斜面2上舒适度。

[0023] 本实施例中，如图2所示，将倾斜面2的垂直高度设为H（如图2中H所示），H为25CM，这样倾斜面2与四周盆壁1围成的泡脚区域的空间可以满足一般人群脚的浸泡，增加本实用新型的通用性。

[0024] 在其它实施例中，足浴盆的盆底还可以设计为实心的，即通过改变足浴盆的盆底厚度以实现倾斜面的自下而上的倾斜设置。

[0025] 在其它实施例中，足浴盆仅设置倾斜面，不设置水平面。

[0026] 在其它实施例中，倾斜面上的按摩凸起还可以为波纹型长条凸起。

[0027] 在其它实施例中，为了增强脚踩面的防滑效果，确保用户的使用体验，还可以在脚踩面上设置防滑橡胶垫。

[0028] 在其它实施例中，磁石的设置位置不唯一。比如，当倾斜面上设置磁石的空间较小时，可以在足浴盆的盆壁上设置盆耳，磁石可放置于盆耳上。

[0029] 在其它实施例中，所述盆体的形状不受限制，例如盆体可呈圆柱型或截面呈腰型等。

[0030] 在其它实施例中，根据盆体的形状不同，盆底的倾斜面的角度可以做适应性调整，例如将其设计为27°至30°范围内的任一角度。

[0031] 在其它实施例中，根据盆体的形状及盆底的倾斜面的角度的不同，倾斜面的垂直高度可以做出适应性调整，将其设计为20CM至23CM范围内的任一高度。

技术领域

[0001] 本实用新型涉及足浴盆技术领域，具体涉及一种足浴盆。

背景技术

[0002] 足浴盆是一种用于足部冲洗按摩的容器。现有足浴盆包括四周盆壁和盆底所围成的盆体，盆体成圆柱形或倒圆台形，也即盆底水平设置，这种足浴盆泡脚时，通常在足浴盆中添加一定量的水（用水需求量大），使水的高度达到能浸泡脚脖的高度，这样虽然能浸泡脚脖，但对于脚的浸泡而言，足浴盆的水只要能漫过脚面即可，而高出脚面至脚脖高度的水并无太大用处，一般泡完脚后水会直接倒掉，从而造成水资源的大量浪费。

实用新型内容

[0003] 本实用新型的目的在于提供一种足浴盆，旨在解决现有技术中的足浴盆在泡脚时用水需求量大而造成的水资源大量浪费的技术问题。

[0004] 为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种足浴盆，包括由四周盆壁和盆底所围成的盆体，所述盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面，所述倾斜面形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面。

[0005] 本实用新型的有益效果：本实用新型实施例提供的足浴盆，盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面，倾斜面形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面，这样，用户使用上述足浴盆泡脚时，可以将脚放置于脚踩面上，倾斜面与四周盆壁围成一个较小且能够容下脚的泡脚区域，该泡脚区域与现有技术中呈水平设置的盆底与四周盆壁围成的泡脚区域而言，向泡脚区域内添加少量的水就可使水的高度达到浸泡脚脖的高度，因此，在满足浸泡脚脖的同时，又减少水的使用量，从而有效解决水资源大量浪费的问题。

[0006] 进一步地，所述盆底的内盆面还包括连接在盆壁与倾斜面上端之间的水平面，所述水平面形成在洗脚前、洗完脚后用于搁放脚的搁放面。采用此种设计可以有效提升足浴盆的实用性。

[0007] 进一步地，所述倾斜面与所述水平面的连接处为圆弧过渡连接。设计成圆弧过渡连接的结构，可以避免用户在使用该足浴盆时被划伤，提升足浴盆的使用安全性。

[0008] 进一步地，所述倾斜面上均布有按摩凸起。设置按摩凸起，可以在泡脚的同时按摩足部穴位，另外，按摩凸起还具有一定的防滑作用。

[0009] 进一步地，所述倾斜面上于相邻两按摩凸起之间的间隙处设置有凹槽，所述凹槽中嵌装有磁石。通过设置磁石，可以达到磁疗的效果，使得该足浴盆更加实用。

[0010] 进一步地，所述倾斜面的倾斜角度为α，α满足：27°≤α≤30°。将盆底的倾斜角设计为27°≤α≤30°，既能有效减小盛水空间以减少水资源的浪费，还能保证用户使用的舒适性。

[0011] 进一步地，所述倾斜面的垂直高度为H，H满足 20CM≤L≤23CM。将倾斜面的垂直高度设置20CM≤L≤23CM，能够保证踩脚空间较为合理，保证足浴盆的设计合理。

附图说明

[0012] 图1是本实用新型中足浴盆的具体实施例的俯视图；

图2是本实用新型中足浴盆的具体实施例的剖视图。

[0013] 图中：1、四周盆壁；2、倾斜面；3、搁脚面；4、按摩凸起。

具体实施方式

[0014] 下面结合附图对本实用新型的实施方式作进一步说明。

[0015] 本实用新型实施例提供一种足浴盆的具体实施例，如图1和图2所述，足浴盆包括倒圆台状的盆体，盆体包括盆底和围设在盆底上的四周盆壁1。盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面2，该倾斜面2形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面。

[0016] 如图1和图2所示，上述足浴盆，盆底的内盆面包括为自下而上倾斜的倾斜面2，倾斜面2形成在洗脚时用于脚踩的脚踩面，这样，用户使用上述足浴盆泡脚时，可以将脚放置于脚踩面上，倾斜面2与四周盆壁1围成一个较小且能够容下脚的泡脚区域，该泡脚区域与现有技术中呈水平设置的盆底与四周盆壁1围成的泡脚区域而言，向泡脚区域内添加少量的水就可使水的高度达到浸泡脚脖的高度，因此，在满足浸泡脚脖的同时，又减少水的使用量，从而有效解决水资源大量浪费的问题。

[0017] 本实施例中，如图1和图2所示，盆底的内盆面还包括连接在盆壁1与倾斜面2上端之间的水平面3，该水平面3形成在洗脚前、洗完脚后用于搁放脚的搁放面，这样在泡脚前可以先将脚踩于搁放面上，待水温合适后将脚放入，泡脚结束后，还可将脚放踩于搁放面上晾干。

[0018] 为确保本实用新型的使用安全性，本实施例中，如图2所示，在倾斜面2与水平面3的连接处采用圆弧过渡连接，避免倾斜面2与水平面3的连接处呈凸棱状而划伤脚。

[0019] 本实施例中，如图2所示，盆底为板状结构，盆底的外表面与四周盆壁1形成中空结构，四周盆壁1的下端面为同一高度的平面，以确保盆体的放置稳定性。

[0020] 为了能在泡脚的同时，又能进行足底穴位按摩，本实施例中，如图1和图2所示，在倾斜面2上均布有按摩凸起4，按摩凸起4呈圆形涂点状。

[0021] 本实施例中，在倾斜面2上于相邻两按摩凸起4之间的间隙处设置有凹槽，凹槽中嵌装有磁石，这样在泡脚的同时，还可以进行磁疗，达到了磁疗保健的目的。

[0022] 本实施例中，如图2所示，倾斜面2的倾斜角度为α（如图2中α所示），α为30°，倾斜角为30°的盆底，在达到节水的目的下，还能确保脚踩在倾斜面2上舒适度。

[0023] 本实施例中，如图2所示，将倾斜面2的垂直高度设为H（如图2中H所示），H为25CM，这样倾斜面2与四周盆壁1围成的泡脚区域的空间可以满足一般人群脚的浸泡，增加本实用新型的通用性。

[0024] 在其它实施例中，足浴盆的盆底还可以设计为实心的，即通过改变足浴盆的盆底厚度以实现倾斜面的自下而上的倾斜设置。

[0025] 在其它实施例中，足浴盆仅设置倾斜面，不设置水平面。

[0026] 在其它实施例中，倾斜面上的按摩凸起还可以为波纹型长条凸起。

[0027] 在其它实施例中，为了增强脚踩面的防滑效果，确保用户的使用体验，还可以在脚踩面上设置防滑橡胶垫。

[0028] 在其它实施例中，磁石的设置位置不唯一。比如，当倾斜面上设置磁石的空间较小时，可以在足浴盆的盆壁上设置盆耳，磁石可放置于盆耳上。

[0029] 在其它实施例中，所述盆体的形状不受限制，例如盆体可呈圆柱型或截面呈腰型等。

[0030] 在其它实施例中，根据盆体的形状不同，盆底的倾斜面的角度可以做适应性调整，例如将其设计为27°至30°范围内的任一角度。

[0031] 在其它实施例中，根据盆体的形状及盆底的倾斜面的角度的不同，倾斜面的垂直高度可以做出适应性调整，将其设计为20CM至23CM范围内的任一高度。