1.SnS/ZnS叠层薄膜太阳能电池制备方法,其特征在于包括如下步骤:
a、将作为基片的FTO导电玻璃清洗干净,安装于磁控溅射机基片座上;然后再安装SnS
靶材、ZnS靶材和Al靶材后关闭磁控溅射机真空室门;
b、开启真空抽气系统抽真空,使本底真空度达到2×10-3Pa以上;
c、开启氩气进气阀门通入氩气,使真空室内真空度达到2×10-1Pa时,开启所有靶材溅射
电源执行预溅射程序;
d、预溅射程序结束后,关闭所有靶材电源,关闭氩气进气阀,再次抽本底真空至2×10-3Pa
以上;
e、再次开启氩气进气阀门通入氩气,当真空室内真空度达到2~9×10-1Pa后,开启SnS
靶材的溅射电源制备SnS薄膜,控制功率密度100~300W/cm2、溅射时间10~30分钟,薄膜
厚度50~80nm;SnS薄膜制备完成后制备ZnS薄膜,控制功率密度200~350W/cm2、溅射时间
10~30分钟,薄膜厚度50~80nm;
f、重复执行步骤e中制备SnS薄膜和ZnS薄膜的程序,总共制备2~4个由SnS薄膜和
ZnS薄膜组成的P-N结;
g、P-N结制备完成后制备Al薄膜,控制功率密度100~250W/cm2、溅射时间10~15分
钟,溅射厚度70~100nm,Al薄膜制备完成后即得到SnS/ZnS叠层薄膜太阳能电池。
2.根据权利要求1所述的SnS/ZnS叠层薄膜太阳能电池制备方法,其特征在于:步骤a
中,FTO导电玻璃的清洗是依次用去离子水、丙酮、无水乙醇在超声波条件下进行清洗。
3.根据权利要求1所述的SnS/ZnS叠层薄膜太阳能电池制备方法,其特征在于:步骤c
中,预溅射程序设定为从起辉开始至设定功率时间为10分钟,到达设定功率后维持30分钟。
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